Лаборатория создания многослойных структур

ПРЕДНАЗНАЧЕНИЕ: Отработка технологий создания многослойных микро- и наноструктур, тестовых элементов в области низкотемпературных плазмохимических технологий.

 

ОБЛАСТЬ ПРИМЕНЕНИЯ: Микроэлектроника. Обучение студентов и повышение квалификации инженеров.

 

Лаборатория представляет собой участок плазмохимических технологий и фотолитографии, предназначенный для создания микро- и наноструктур. В сочетании с возможностями других лабораторий АТИЦ НГУ и инфраструктурой, имеющейся в Институте физики полупроводников СО РАН, способна проводить разработки современных и новых элементов в области широкоформатной, сенсорной и силовой электроники.

Установки плазмохимического осаждения и травления предназначены для осуществления плазмохимического осаждения тонких пленок кремния, оксида и нитрида кремния при температурах 50-300С в реакторе индукционного типа с высокой однородностью по площади (150мм), и травления этих пленок.

Установка совмещения и экспонирования предназначена для осуществления фотолитографического процесса методом контактной литографии.

Центрифуга предназначена для нанесения тонких пленок фоторезиста.

Химические шкафы предназначены для проведения химических операций очистки поверхности, химических обработок, жидкостного травления микро- и наноструктур.

Микроскоп контроля качества предназначен для пооперационного контроля изготавливаемых тестовых элементов и структур методом оптической микроскопии.

Отделение: 
Технологическое
Контакты: 

Камаев Геннадий Николаевич 
e-mail: kamaev@isp.nsc.ru

Антоненко Александр Харитонович
antuan@isp.nsc.ru